ASML anuncia salto tecnológico que promete aumentar a produção de chips em 50% até 2030

Num movimento estratégico para consolidar o seu domínio absoluto no mercado de semicondutores, a ASML Holding (a empresa mais valiosa empresa da Europa, vale cerca de 530 mil milhões de euros) anunciou ter desenvolvido uma forma de potenciar drasticamente a fonte de luz das suas máquinas de litografia ultravioleta extrema (EUV). O avanço promete elevar a capacidade de produção de chips em cerca de 50% até ao final desta década.

A descoberta, revelada esta segunda-feira (23 de fevereiro) em exclusivo à Reuters nas instalações da empresa em San Diego, EUA, foca-se no aumento da potência da fonte de luz dos atuais 600 watts para os 1000 watts. De acordo com os investigadores da ASML, este incremento não é apenas um teste laboratorial, mas um sistema capaz de operar sob as exigentes condições exigidas pelos seus clientes, como a TSMC e a Intel.

O segredo está no estanho e no laser

A litografia EUV é um dos processos mais complexos alguma vez criados pelo ser humano. Para gerar luz com um comprimento de onda de 13,5 nanómetros, a máquina dispara gotas de estanho derretido que são atingidas por um laser de CO₂, transformando-as em plasma mais quente que o Sol.

A inovação agora apresentada assenta em dois pilares: a duplicação da frequência até agora obtida, com o sistema a passar a disparar cerca de 100.000 gotas de estanho por segundo; e a refinação do plasma -- em vez de se fazer único disparo de laser para moldar o plasma, a nova tecnologia utiliza dois impulsos menores e mais precisos.

Teun van Gogh, vice-presidente executivo da linha NXE da ASML, explicou que esta maior potência permite reduzir o tempo de exposição dos "wafers" de silício. Com isto, a previsão é que as máquinas passem a processar 330 "wafers" por hora até 2030, comparativamente aos 220 atuais.

A corrida pela liderança industrial também e um caso de geopolítica

Este anúncio surge num momento de elevada tensão competitiva. A ASML é atualmente a única empresa no mundo a comercializar máquinas EUV, uma ferramenta essencial para a produção dos chips mais avançados do planeta. No entanto, a pressão aumenta: a China lançou um esforço nacional para desenvolver tecnologia própria após as restrições de exportação impostas pelos EUA e Países Baixos. E nos Estados Unidos surgiram startups como a Substrate e a xLight (esta última com apoio governamental) que tentam quebrar o atual monopólio neerlandês.

Com esta demonstração de força técnica, a ASML envia um sinal claro ao mercado e aos rivais: "Vemos um caminho razoavelmente claro para os 1500 watts, e não há nenhuma razão fundamental para não chegarmos aos 2000 watts", afirmou Michael Purvis, principal tecnólogo da fonte de luz EUV da empresa.

Para os fabricantes de dispositivos eletrónicos, este avanço traduz-se numa potencial redução de custos por chip, permitindo que a tecnologia de ponta continue a evoluir de forma economicamente viável nos próximos anos.